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中芯國際發(fā)布新型半導體結構專利,提升光學對準精度

天眼查App顯示,中芯國際集成電路制造(北京)有限公司與中芯國際集成電路制造(上海)有限公司聯(lián)合申請的一項發(fā)明專利“半導體結構及其形成方法”于2023年6月29日正式公開。該專利的核心創(chuàng)新在于對準標記層的設計,其透光率低于基底和覆蓋層,從而在覆蓋層下仍能清晰識別對準標記層。

該專利的發(fā)明人包括宋孟夏、陳楠、馬德敬和朱娜。專利技術通過優(yōu)化對準標記層的尺寸、形貌和位置精度,確保其在覆蓋層厚度變化時仍能保持高精度,進而提升后續(xù)圖形化制程中的光學對準精度。這一技術突破不僅提高了半導體結構的性能,還為半導體制造工藝的進一步優(yōu)化提供了新的可能性。

中芯國際作為中國領先的半導體制造企業(yè),此次專利的公開再次展示了其在技術創(chuàng)新方面的實力。該專利的推廣應用有望為半導體行業(yè)帶來新的技術突破,推動整個行業(yè)的技術進步。

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